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记者受邀参加中美知识产权司法审判研讨会

5月28日至30日,《中国知识产权》杂志记者受邀参加由中国法学会主办的“中美知识产权司法审判研讨会”。美国联邦巡回上诉法院超过半数的法官,以及产业界、法律界上百位知识产权专业人士专程来到北京,与中国各级人民法院从事知识产权审判工作的法官一道,围绕“司法、诉讼、创新”等多层次备受关注的知识产权领域法律应用主题展开对话与交流。
  研讨会以“知识产权审判宏观问题”为主题的报告会拉开帷幕,国家新闻出版总署、国家知识产权局官员,中国人民大学知识产权学院负责人,美国专利商标局官员就“知识产权制度的发展”这一命题从不同视角进行主题演讲。在“中美法官”对谈环节中,包括最高人民法院知识产权庭负责人和美国联邦巡回上诉法院首席法官在内的14余名中美两国知识产权法官就知识产权审判工作和目前业界热点话题展开面对面的对话。此次研讨会还分别设置了专利、商标、著作权和医药专题分会场,针对长期以来业界持续关注的问题进行全面、深入的探讨。
  据了解,本次会议规模之大、内容之丰富、历时之长、影响之广,在我国知识产权业界尚属首次。与会人员纷纷表示,本次活动为知识产权从业人员进一步了解中美知识产权司法制度、交流从业经验提供了良好的平台。

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